BlockBeats 消息,7 月 1 日,据韩国主流财经媒体 SEDaily 报道,三星電子正在開發利用量子計算機模擬半導體製造核心光刻(Photolithography)工藝的技術。這是一個旨在集結下一代信息技術,推動半導體集成度和良率實現突破性提升的項目。
該項目由三星集團系統集成子公司三星 SDS 負責研發,並計劃於今年下半年啟動技術概念驗證(PoC)。
据悉,三星 SDS 近期正在開發一種基於量子計算機的模擬算法,可對光刻工藝中的部分流程進行虛擬仿真。光刻工藝是利用光線在晶圓上繪製微細電路圖案的關鍵步驟,相當於在蝕刻形成實際電路之前先完成「底稿」繪製,因此被視為決定半導體成品質量、集成度和製造良率的核心工藝之一。
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